4PVD真空镀
物相沉积(Physical vapor deposition,PVD):是一种工业制造上的工艺,是主要利用物理过程来沉积薄膜的技术。
PVD原理示意图
工艺流程:
PVD前清洗→进炉抽真空→洗靶及离子清洗→镀膜→镀膜结束,冷却出炉→后处理(抛光、AFP)
技术特点:
PVD(Physical Vapor Deposition物相沉积) 可以在金属表面镀覆高硬镀、高耐磨性的金属陶瓷装饰镀层
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镀 (Electroplating)
电镀:是利用电解作用使金属的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止腐蚀,提高耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用的一种技术。
工艺流程:
前处理→无氰碱铜→无氰白铜锡→镀铬
技术特点:
优点:
1、镀层光泽度高,高品质金属外观;
2、基材为SUS、Al、Zn、Mg等;成本相对PVD低。
缺点:
环境保护较差,环境污染风险较大。
技术特点:
1、实现不同的反光或亚光。
2、能清理工件表面的微小毛刺,并使工件表面更加平整,消除了毛刺的危害,提高了工件的档次。
、清楚前处理时遗留的残污,提高工件的光洁度,能使工件露出均匀一致的金属本色,使工件外表更美观,好看。
蚀刻:通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
工艺流程:
曝光法:工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK
网印法:开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK
技术特点:
优点:
1、可进行金属表面细微加工;
2、赋予金属表面特殊的效果;
缺点:
蚀刻时采用的腐蚀液体(酸、碱等)大多对环境具有危害。
抛光:利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。
针对不同的抛光过程:粗抛(基础抛光过程),中抛(精加工过程)和精抛(上光过程),选用合适的抛光轮可以达到抛光效果,同时提高抛光效率。
工艺流程:
技术特点:
高工件的尺寸精度或几何形状精度,得到光滑表面或镜面光泽,同时也可消除光泽。
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